Wall dress, un diálogo entre arquitectura y moda

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Ya hay ganadoras del Samsung EGO Innovation Project, el certamen que une moda y tecnología. Son Elena Zapico y Raquel Buj —las mentes creativas tras la firma ZAP & BUJ— por su proyecto Wall dress. Se trata de una interesante propuesta que convierte planos arquitectónicos en patrones de moda. Este proyecto, que verá la luz el próximo 19 de septiembre sobre la pasarela de EGO en la Madrid Fashion Week, presenta una nueva forma de comprender la arquitectura y la moda dentro del mismo campo.

Wall dress aproxima la arquitectura al cuerpo haciendo posible la recuperación de la cercanía y conexión entre ambos que se ha ido desvaneciendo en los espacios que habitamos. La propuesta presenta una serie de paneles arquitectónicos en forma de muros o veladuras que se convierten en vestidos a través de la tecnología y el uso de tejidos y materiales con memoria de forma.

La firma propone un proyecto en el que han trabajado dentro del campo de la creación y fabricación digital de nuevas pieles: materiales que se adaptan a la forma del cuerpo al recibir un estímulo de calor. Para el desarrollo de la parte tecnológica de la propuesta, ZAP & BUJ ha colaborado con Aitex, centro de referencia de investigación, innovación y servicios técnicos avanzados para el sector textil y la confección de textiles técnicos y con el Instituto de Ciencia y Tecnología de Polímeros del CSIC.

Meshes and patterns #fashionandarchitecture

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Sobre la pasarela se presentará una interesante reflexión a modo de diálogo entre arquitectura y moda, dos disciplinas que se conectan en este proyecto mediante innovadores procesos de adaptación gracias a materiales con memoria de forma. Siete planos arquitectónicos flotantes sobre la pasarela se deslizarán delicadamente sobre las modelos convirtiéndose así en patrones de moda.

From digital to crafts #fashionandarchitecture

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Fotografías: zap_buj ©

Sobre el Autor

Murray Magazine

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